-
Personigita Prilaborado de Al2O3 Ceramika Oblata Ĉuko
Formitaj per malvarma izostatika premado kaj sinteritaj sub alta temperaturo, poste precize maŝinitaj kaj poluritaj, la ceramikaj rezervaj partoj povas plenumi ĉiujn striktajn postulojn de duonkonduktaĵaj ekipaĵoj pro siaj trajtoj de eluziĝrezisto, korodrezisto, malalta termika ekspansio kaj izolado. Ceramikoj povas funkcii en multaj specoj de duonkonduktaĵaj produktadekipaĵoj en kondiĉoj de alta temperaturo, vakuo aŭ koroda gaso dum longa tempo.
Farita el altpureca alumina pulvoro, prilaborita per malvarma izostatika premado, alttemperatura sinterizado kaj preciza finpoluro, ĝi povas atingi dimensiotoleremon ĝis ±0.001 mm, surfacan finpoluron Ra 0.1, temperaturreziston 1600℃.
-
ST.CERA Personigita Duonkondukta Ekipaĵo Ceramika Plato
Formitaj per malvarma izostatika premado kaj sinteritaj sub alta temperaturo, poste precize maŝinitaj kaj poluritaj, la ceramikaj rezervaj partoj povas plenumi ĉiujn striktajn postulojn de duonkonduktaĵaj ekipaĵoj pro siaj trajtoj de eluziĝrezisto, korodrezisto, malalta termika ekspansio kaj izolado. Ceramikoj povas funkcii en multaj specoj de duonkonduktaĵaj produktadekipaĵoj en kondiĉoj de alta temperaturo, vakuo aŭ koroda gaso dum longa tempo.
Farita el altpureca alumina pulvoro, prilaborita per malvarma izostatika premado, alttemperatura sinterizado kaj preciza finpoluro, ĝi povas atingi dimensiotoleremon ĝis ±0.001 mm, surfacan finpoluron Ra 0.1, temperaturreziston 1600℃.
-
12-cola Alumina Vakua Ĉuko por 300mm Oblato-Prilaborado
La 12-cola vakua ĉuko de St.Cera estas precize fabrikita el 99.8% alt-pureca alumino (Al₂O₃) por manipulado de 300mm vaflajoj. La ĉuko havas fajne kanelitan surfacon (kanela larĝo 0.5–1.0 mm, paŝo 2–3 mm) por certigi unuforman vakuan distribuon tra la tuta 300mm diametro. Plateco estas konservata ene de 5 μm, ebligante senvarpan fiksadon de la vaflajoj dum hakado, malantaŭa muelado kaj inspektado. La alta fleksa forto (361 MPa) kaj malmoleco (16 GPa) de la materialo garantias longdaŭran dimensian stabilecon eĉ sub ripetaj vakuaj cikloj.
-
Ceramikaj Rezervaj Partoj por Duonkondukta Sonda Ekipaĵo
Formitaj per malvarma izostatika premado kaj sinteritaj sub alta temperaturo, poste precize maŝinitaj kaj poluritaj, la ceramikaj rezervaj partoj povas plenumi ĉiujn striktajn postulojn de duonkonduktaĵaj ekipaĵoj pro siaj trajtoj de eluziĝrezisto, korodrezisto, malalta termika ekspansio kaj izolado. Ceramikoj povas funkcii en multaj specoj de duonkonduktaĵaj produktadekipaĵoj en kondiĉoj de alta temperaturo, vakuo aŭ koroda gaso dum longa tempo.
Farita el altpureca alumina pulvoro, prilaborita per malvarma izostatika premado, alttemperatura sinterizado kaj preciza finpoluro, ĝi povas atingi dimensiotoleremon ĝis ±0.001 mm, surfacan finpoluron Ra 0.1, temperaturreziston 1600℃.
-
Ceramika Plato Duonkondukta Ekipaĵa Portanto
Formitaj per malvarma izostatika premado kaj sinteritaj sub alta temperaturo, poste precize maŝinitaj kaj poluritaj, la ceramikaj rezervaj partoj povas plenumi ĉiujn striktajn postulojn de duonkonduktaĵaj ekipaĵoj pro siaj trajtoj de eluziĝrezisto, korodrezisto, malalta termika ekspansio kaj izolado. Ceramikoj povas funkcii en multaj specoj de duonkonduktaĵaj produktadekipaĵoj en kondiĉoj de alta temperaturo, vakuo aŭ koroda gaso dum longa tempo.
Farita el altpureca alumina pulvoro, prilaborita per malvarma izostatika premado, alttemperatura sinterizado kaj preciza finpoluro, ĝi povas atingi dimensiotoleremon ĝis ±0.001 mm, surfacan finpoluron Ra 0.1, temperaturreziston 1600℃.
-
Ceramikaj Rezervaj Partoj por Duonkonduktaĵa Ekipaĵo
Formitaj per malvarma izostatika premado kaj sinteritaj sub alta temperaturo, poste precize maŝinitaj kaj poluritaj, la ceramikaj rezervaj partoj povas plenumi ĉiujn striktajn postulojn de duonkonduktaĵaj ekipaĵoj pro siaj trajtoj de eluziĝrezisto, korodrezisto, malalta termika ekspansio kaj izolado. Ceramikoj povas funkcii en multaj specoj de duonkonduktaĵaj produktadekipaĵoj en kondiĉoj de alta temperaturo, vakuo aŭ koroda gaso dum longa tempo.
Farita el altpureca alumina pulvoro, prilaborita per malvarma izostatika premado, alttemperatura sinterizado kaj preciza finpoluro, ĝi povas atingi dimensiotoleremon ĝis ±0.001 mm, surfacan finpoluron Ra 0.1, temperaturreziston 1600℃.
-
Altpureca Alumina Ceramika Sigela Ringo por Alttemperatura Kamera Sigelado
La ceramika sigelringo de St.Cera estas desegnita kiel alternativo al polimeraj O-ringoj en ekstremaj medioj kie elastomeroj degradiĝas. Fabrikita el 99.8% altpureca alumino (Al₂O₃), ĉi tiu rigida sigelringo estas uzata en statikaj sigelaj aplikoj — tipe parigita kun mola metalo aŭ grafita pakado — por provizi fidindan vakuon aŭ gasretenon je temperaturoj ĝis 800°C kaj en agresemaj plasmaj aŭ kemiaj medioj. La materialo ofertas nulan elgasadon, altan kunpreman forton (subesta fleksa forto 361 MPa), kaj kemian inertecon (rezistema al halogenoj, acidoj kaj alkaloj krom HF). Precize lapintaj sigelaj surfacoj (plateco ≤5 μm, surfaca malglateco Ra ≤0.2 μm) certigas hermetikan kontakton kun kuniĝantaj metalaj aŭ ceramikaj komponantoj.
-
Altpureca Alumina Kamera Fokusa Ringo por Plasmo-Gravado kaj CVD Sistemoj
La kamera fokusa ringo de St.Cera estas kritika komponanto de proceza ilaro uzata en plasmogravurado, CVD, kaj PVD-duonkonduktaĵa ekipaĵo. Fabrikita el 99.8% altpureca alumino (Al₂O₃), la ringo ĉirkaŭas la randon de la silo por limigi la plasmon kaj optimumigi la angulan distribuon de jonoj, tiel plibonigante la gravuran homogenecon tra la silosurfaco. La materialo ofertas esceptan plasmoreziston, altan dielektrikan forton (15×10⁶ V/m), kaj termikan stabilecon ĝis 1600°C, certigante longdaŭran fidindecon en agresemaj fluor- aŭ kloro-bazitaj plasmaj medioj. Precize muelitaj internaj/eksteraj difinoj kaj plateco (≤10 μm) ebligas precizan poziciigon de la rando de la silo, reduktante randajn difektojn kaj partiklan generadon.
-
Altpureca Alumina Ceramika Ringo por CVD / PVD Procezaj Ĉambroj
La ceramika ringo de St.Cera estas speciale desegnita por uzo en CVD (Kemia Vapora Deponado) kaj PVD (Fizika Vapora Deponado) procezĉambroj. Fabrikita el 99.8% altpureca alumino (Al₂O₃), ĉi tiu ringo servas kiel kamera tegaĵo, fokusa ringo aŭ procezkompleta komponanto por enfermi plasmon kaj protekti la kamerajn murojn kontraŭ erozio. La materialo ofertas bonegan plasmoreziston, altan dielektrikan forton (15×10⁶ V/m), kaj termikan stabilecon ĝis 1600°C, certigante longan servodaŭron en agresemaj fluor-bazitaj plasmaj medioj. Precizaj dimensiaj tolerancoj (±0.05 mm sur interna/ekstera diametro) kaj plateco (≤10 μm) ebligas koheran poziciigon de la randoj de la oblato, plibonigante la homogenecon de la deponado kaj reduktante la generadon de partikloj.
-
Pora Ceramika Vakua Ĉuko por Misforma Oblato-Manipulado
La pora ceramika ĉuko de St.Cera estas fabrikita el altpureca alumino kun unuforma malferma poreco de 30–45% kaj porgrandecoj variantaj de 10 ĝis 100 μm. Male al konvenciaj kanelitaj ĉukoj, la pora surfaco provizas distribuitan vakuon tra la tuta malantaŭa flanko de la sigelo, efike tenante misformitajn, maldikajn aŭ unuopajn sigelojn sen ke la rando leviĝu aŭ rompiĝu. La milda vakuo (alĝustigebla per limigilo) ankaŭ malhelpas markadon sur la malantaŭa flanko.
-
Alumino-bazita pora ceramika vakua ĉuko por manipulado de maldikaj obleoj
La pora ĉenko de St.Cera, bazita sur alumino-teroj, estas fabrikita el 99.6% altpureca Al₂O₃ kun kontrolita malferma poreco de 30–45% kaj uniforma porgrandeco intervalanta de 10 ĝis 50 μm. Male al kanelitaj ĉenkoj, la pora surfaco provizas distribuitan vakuon tra la tuta malantaŭa flanko de la oblatoj, eliminante randmarkadon kaj ebligante mildan tenadon de ultra-maldikaj (≤100 μm) aŭ misformitaj oblatoj. La materialo ofertas fleksoreziston ≥250 MPa kaj termikan stabilecon ĝis 400°C en aero.
-
Distribuplato de Alumina Gaso por CVD/PVD Duŝkapo
La gasdistribua plato (duŝkapo) de St.Cera estas precize maŝinita el altpureca 99.8%-alumina ceramiko. Ĝi havas aron da mikrotruoj (diametroj 0.3–1.5 mm) kiuj certigas unuforman gasfluon trans la surfacon de la oblikvaĵo dum CVD, PVD aŭ ALD-procezoj. La alta dielektrika forto (>15×10⁶ V/m) kaj plasmorezisto de la plato igas ĝin esenca por la deponado de duonkonduktaĵaj maldikaj filmoj.
